品名：光学满天星刻字膜 光学人形纹满天星刻字膜 光学编织纹满天星刻字膜

规格:1*100M/卷、50CM*25M/卷、1.37*100M/卷

品牌：AS

厚度：0.2MM

表面效果：人形纹满天星、碎玻璃纹满天星、七彩镭射满天星、石头纹满天星、树枝纹满天星、草苺纹满天星、感光满天星、光学满天星、3D圆圈满天星、拉丝纹满天星、方格纹满天星、马赛克满天星等30几种纹络的满天星效果任君选择。

产品信息

主要成分：聚氨酯

厚度(mm)：0.34~0.35

颜色：无色透明

厚度偏差(mm)：±0.005

幅宽（mm）:0~1500

热熔胶层硬度（邵氏A）：65

软化点（℃）：90

离型基材：80G格拉辛双硅纸

压力（Mpa）：0.35~0.4

压烫时间（s）：8~25

春夏压烫温度（℃）：145

秋冬压烫温度（℃）：155

耐黄变：UV>4级，户外

开放时间（s）：8~20

拉伸强度（Mpa）：0.32~0.45

剥离强度（KN/m）：62.5

耐曲折：弹强，可拉伸可回缩    

持久强度（Mpa）：0.32~0.48

粘接材质

尼龙布、化纤布、涤纶布

莱卡布、牛仔布、针织布

涂层布、氨纶布、水洗布

佳吉布、鸟眼布、棉纺布

TC布、植绒、纤

皮革、网布（三明治）

TPU、PU、PP

耐温：170度无变化

工艺：雕刻再热转印

加工机器：激光机、刻字机、啤机

特点：七彩效果强，镭射幻彩随光源不断变化，耐折、耐磨、耐干湿磨、耐机洗、牢固度好，色泽柔和美观；品质稳定

原理：表面光滑，膜层之间的界面呈几何分割；膜层的折射率在界面上可以发生跃变，但在膜层内是连续的；可以是透明介质，也可以是 吸收介质；可以是法向均匀的，也可以是法向不均匀的。实际应用的薄膜要比理想薄膜复杂得多。这是因为：制备时，薄膜的光学质和物理质偏离大块材料，其表面和界面是粗糙的，从而导致光束的漫散射；膜层之间的相互渗透形成扩散界面；由于膜层的生长、结构、应力等原因，形成了薄膜的各向异；膜层具有复杂的时间效应。

使用方法:将光学满天星刻字膜放置于刻字机或激光切割上，进行切割，再将多余的废料排掉，终反向将满天星刻字膜热烫在纺织品上或鞋材上，完成。

1.用刻字机先切割成需要的形状，撕离图案以外的胶膜，切割深度以割入底层胶片10—30 UM、切割的压力160-170GF为佳。

2.撕下保护膜，用烫画机直接转烫在承印物上。

3.转烫温度一般在130摄氏度到155摄氏度，时间为10秒到20秒，压力20—30磅（根据不同材质及要求来定）。

4.可热/冷撕。将表面胶片撕离即可。

应用范围：纺织品、服装、鞋材、运动号码、标志、广告、海报、公司logo等

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